Home

 

Modul M 2.2 - Dezvoltare tehnologica [...]

  • Objectives:

    • punere in functiune echipament de nanolitografie;
    • punerea la punct a proceselor de nanolitografie si stabilirea dimensiunilor minime care se pot configura;
    • dezvoltarea de procese de corodare prin masca nanolitografica pentru transferarea geometriei dorite in substrat;
    • stabilirea de metode de aliniere cu mastile optice pentru a permite integrarea nanostructurilor cu dispozitive microfotonice
    • dezvoltare procese de realizare structuri la scara nano multi – nivel;
    • realizare structuri demonstrative de elemente optice difractive si retele de difractie micro si nanostructurate;
    • dezvoltare procese de realizare cristale fotonice 1D si 2D;


  • Rezultate:
    procese de nanolitografie pentru obtinerea de detalii minime sub 100nm; baza de date cu parametri de proces (pentru EBL si RIE) pentru obtinerea de nanostructuri; metode de aliniere masti nanolitografice cu mastile pentru litografie optica; structuri demonstrative.
Scop
Parteneri
Obiective
Module activitati
Resurse
Activitati/Rezultate
Publicatii
Proiecte europene
Evenimente
Contact