punerea la punct a proceselor de nanolitografie si stabilirea dimensiunilor minime care se pot configura;
dezvoltarea de procese de corodare prin masca nanolitografica pentru transferarea geometriei dorite in substrat;
stabilirea de metode de aliniere cu mastile optice pentru a permite integrarea nanostructurilor cu dispozitive microfotonice
dezvoltare procese de realizare structuri la scara nano multi – nivel;
realizare structuri demonstrative de elemente optice difractive si retele de difractie micro si nanostructurate;
dezvoltare procese de realizare cristale fotonice 1D si 2D;
Rezultate:
procese de nanolitografie pentru obtinerea de detalii minime sub 100nm; baza de date cu parametri de proces (pentru EBL si RIE) pentru obtinerea de nanostructuri; metode de aliniere masti nanolitografice cu mastile pentru litografie optica; structuri demonstrative.